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Defect-aware Reticle Floorplanning for EUV Masks

机译：EUV掩模的缺陷感知掩模版布局规划

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Abde Ali Kagalwallaa; Puneet Guptaa; Duck-hyung Hurb; Chul-hong Parkb;
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年度 2015
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5. Key Challenges in EUV Mask Technology: Actinic Mask Inspection and Mask 3D Effects. [D] . Wang, Yow-Gwo. 2017

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8. SEMATECH High-NA Actinic Reticle Review Project (SHARP) EUV Mask-Imaging Microscope. [R] . Mochi, I., Benk, M. P., Lin, C., 2013

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