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机译:钨和钼在低能量,高通量氘等离子体中的表面改性和氘保留
V. Kh. Alimov; W. M. Shu; J. Roth; D. A. Komarov; S. Lindig; K. Isobe; H. Nakamura; T. Yamanishi;
机译:表面改性和氘保留在低能量,高通量纯净和氦气氘等离子体暴露于低能量钢中的抑制钢
机译:高通量氘等离子体暴露的钨和钨钽合金的表面改性及其对氘保留的影响
机译:在低能,高通量纯氦种子的氘离子中,位移损伤对ITER级钨中氘保留的影响
机译:钨和钼暴露于低能量,高通量氘质等离子体的表面改性和氘保留
机译:氘化在面向锂的石墨等离子表面中的基本机理。
机译:暴露于低能氦等离子体的硅和锗表面的纳米级改性
机译:钨的表面形态和氘保留暴露于低能,高通量纯净和氦气氘等离子体
机译:在核裂变反应堆中增加固态表面上中子反射的方法,包括将氘原子的平均密度平均到氘密度的预定倍数,并提供氘原子作为高密度簇
机译:使用低压低偏压氘(氘)等离子体的选择性二氧化硅去除
机译:氮和氘的等离子体处理金属表面的过程
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