机译:CH_2F_2和H_2流量对双频CH_2F_2 / H_2 / Ar电容耦合等离子体中氮化硅对ArF PR的无限蚀刻选择性的工艺窗口的影响
机译:ITER诊断窗口中KU-1和KS-4V石英玻璃中传输损耗的温度依赖性
机译:抑制Cl-2等离子体在高温下对GaN的等离子体诱导的损伤
机译:石英窗温度对STI蚀刻过程中等离子体组成的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:低温等离子体制备薄无机多层膜成分深度分析的弹坑壁
机译:在基于SF6的等离子体中通过低温等离子体增强的原子层沉积法生长的氮化铝掩模层的等离子体蚀刻特性
机译:等离子体和离子蚀刻用于失效分析。第2部分。使用Technics Giga Etch 100-E等离子蚀刻系统对塑料封装和其他半导体器件材料进行蚀刻