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机译:具有al表面钝化功能的新型al post-Etch残留物去除剂
Joyce C. Y. Wei; Micky Huang;
机译:使用有机溶剂和添加剂结合物理力去除蚀刻后光刻胶和侧壁残留物
机译:Cu / Low-k双金属镶嵌蚀刻后残留物和TiN硬掩模去除的优化
机译:使用氯化胆碱-丙二酸深共熔溶剂(DES)去除蚀刻后残留物
机译:具有Al表面钝化功能的新型Al蚀刻后残留去除剂
机译:使用自由基阴离子化学去除碳氟化合物蚀刻后残留物。
机译:牛乳头瘤病毒E1 DNA结合域的表面诱变揭示了与DNA复制相关的多种功能所需的残基
机译:用于22 nm互连的光刻胶去除和蚀刻后残留物去除的挑战和新颖方法
机译:同时表面钝化处理的铝蚀刻后残留物去除
机译:去除铝蚀刻后残留物并同时进行表面钝化
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