机译:在O_3气氛下用紫外线辐射退火化学气相沉积Ta_2O_5薄膜的结构和导电机理的变化
机译:热退火对化学浴沉积PbS-CuS薄膜带隙和光学性能的影响
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机译:退火气氛对化学沉积PBS薄膜结构和性能的影响
机译:溅射沉积外延(1-x)Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O3-- xPbTiO3薄膜的结构性质关系。
机译:退火温度对化学浴镀(CBD)技术在低溶液浓度下沉积的CdS薄膜光学光谱的影响
机译:退火对热壁沉积PBXN(1-X)薄膜的微观结构和光学性能的影响