机译:射频Ar / O_2等离子体刻蚀铝涂层金刚石薄膜形成纳米晶须
机译:CF4 / O2 / Ar等离子体中带有铝掩模的铱薄膜的高温反应离子刻蚀
机译:最终退火形成的氧化膜对电解电容器铝箔的直流蚀刻性能的影响
机译:PZT薄膜的电感耦合等离子体(ICP)蚀刻,用于使用光致抗蚀剂/铝双层掩膜制造光波导
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:氧化铝纳米粒子薄膜沉积非热血浆:合成表征和结晶
机译:高温反应离子刻蚀CF4 / O2 /空气等离子体中铝掩模的铱薄膜
机译:用等离子体和离子束技术合成DLC薄膜的表征和性能