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机译:蚀刻,沉积和光刻开发的水平集方法概述
J. A. Sethian; D. Adalsteinsson;
机译:用于蚀刻,沉积和光刻的统一模型的水平集方法
机译:用于蚀刻,沉积和光刻的统一模型的水平集方法Ⅱ:三维模拟
机译:用于蚀刻,沉积和光刻开发的水平集方法的计算性能
机译:开发水平集方法以计算具有势能的Schrödinger方程的半经典极限
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:LDRD最终报告:关于在特征尺度蚀刻和沉积过程中建模表面演变的混合水平集/粒子方法的开发。
机译:通过材料沉积,光刻和蚀刻的功能重组进行多层制造处理
机译:通过材料沉积,光刻和蚀刻的功能调整进行多级制造处理
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