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机译:用于过程控制的正性化学放大光刻胶的表征
Nickhil Jakatdar; Xinhui Niu; Costas J. Spanos; Andy Romano; Joe Bendik; Ronald Kovacs;
机译:正化学放大光致抗蚀剂中耦合酸催化-扩散过程的确定
机译:脂环族聚合物的合成及其化学放大正性光刻胶的表征
机译:用于过程控制的化学放大正性光刻胶的表征
机译:正极化学放大光致抗蚀剂中的催化剂扩散。
机译:通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图
机译:影响化学扩增DUV阳性光致抗蚀剂性能的因素。
机译:具有高分辨率和尺寸可控性的厚膜的化学放大正型光致抗蚀剂组合物和厚膜抗蚀剂膜的制造方法
机译:具有氧代茚满基,四烯丙基或苯二甲酰基的新型sulf盐可用作在远真空UV波长下化学放大的正负光致抗蚀剂中的光酸产生剂
机译:化学放大的正性光致抗蚀剂组成和图案形成过程
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