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Use of Auger Parameter in the Characterization of Chemical State by X-ray Photoelectron Spectroscopy : A Review

机译:俄歇参数在X射线光电子能谱表征化学状态中的应用

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摘要

In this review the concept of Auger parameter and its applications for the XPS analysis of materials and their surfaces are described. First, the definition of the Auger parameter and the experimental methods to obtain the Auger parameter are introduced. Then the physical meaning of the Auger parameter is clarified and the relations between the bulk properties of materials, such as polarizability, refractive index, and band-gap, and the Auger parameter is interpreted. The recent applications of Auger parameter for the analysis of materials and their surfaces, such as alloys, thin films, surface layers, clusters, catalysis, and surface corrosion, are reviewed.
机译:在这篇综述中,描述了俄歇参数的概念及其在材料及其表面的XPS分析中的应用。首先介绍了俄歇参数的定义和获得俄歇参数的实验方法。然后阐明俄歇参数的物理含义,解释材料的整体性质之间的关系,例如极化率,折射率和带隙,并解释俄歇参数。综述了俄歇参数在材料及其表面(例如合金,薄膜,表面层,团簇,催化作用和表面腐蚀)分析中的最新应用。

著录项

  • 作者

    文珠四郎 秀昭;

  • 作者单位
  • 年度 2006
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ja
  • 中图分类

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