机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:Ru中间层的斜入射溅射,用于垂直记录介质中晶间交换的解耦
机译:衬底偏压对沉积在硅衬底上的溅射HfO2薄膜电性能的影响研究
机译:使用室温偏压溅射以减少沉积在聚合物基材上的磁介质中的晶间耦合
机译:偏置溅射法生长铜-铬亚稳合金:基体偏置和合金组成对溶解度和形态的影响。
机译:Ru中间层的斜入射溅射用于垂直记录介质中晶间交换的解耦
机译:粒度垂直磁记录介质中的晶间交换耦合的减少^ ^ mdash;将在高Ar气体压力下沉积的薄层插入记录层^ ^ mdash的初始生长区域中;
机译:组分和衬底偏压对溅射沉积Ni-La合金组织和惰性气体含量的影响