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【2h】

Dual-metal gate technology for deep-submicron CMOS transistors

机译：用于深亚微米CMOS晶体管的双金属栅极技术

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Qiang Lu; Yee Chia Yeo; Pushkar Ranade; Hideki Takeuchi; Tsu-jae King; Chenming Hu; S. C. Song; H. F. Luan; Dim-lee Kwong;
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年度 2014
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