机译:六方氮化硼(h-BN)的过渡金属表面钝化边缘和h-BN的化学气相沉积(CVD)生长机理
机译:通过金属 - 有机化学气相沉积晶片级差的晶片尺度少层H-Bn的压力依赖性生长
机译:化学气相沉积生长对石墨烯生长的边缘催化剂润湿和取向控制
机译:使用垂直入射原位光学生长速率监视器来控制通过有机金属化学气相沉积进行的氮化物半导体沉积的限制
机译:金属有机化学气相沉积和激光光化学气相沉积对III-V族化合物半导体材料的生长和表征
机译:通过控制层数和形貌的化学气相沉积法合成二维过渡金属二卤化物
机译:六方氮化硼(h-BN)的过渡金属表面钝化边缘和h-BN的化学气相沉积(CVD)生长机理
机译:金属有机化学气相沉积法测定RuO(sub 2)薄膜的低温生长和取向控制