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Stability of boron nitride bilayers : ground-state energies, interlayer distances, and tight-binding description

机译:氮化硼双层的稳定性:基态能量,层间距离和紧密结合的描述

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摘要

We have studied boron nitride monolayer and bilayer band structures. For bilayers, the ground-state energiesof the different five stackings are computed using DFT in order to determine the most stable configuration. Also,the interlayer distance for the five different types of stacking in which boron-nitride bilayers can be found isdetermined. Using a minimal tight-binding model for the band structures of boron nitride bilayers, the hoppingparameters and the on-site energies have been extracted by fitting a tight-binding empirical model to the DFTresults.
机译:我们已经研究了氮化硼单层和双层带结构。对于双层,使用DFT计算不同五个堆叠的基态能量,以确定最稳定的结构。而且,确定了可以发现氮化硼双层的五种不同类型堆叠的层间距离。对氮化硼双层的能带结构使用最小紧密结合模型,通过将紧密结合经验模型拟合到DFT结果中,提取出跳跃参数和现场能量。

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