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【2h】

Development and Metrology of Extreme Ultraviolet and soft X-ray Multilayer Mirrors

机译：极紫外和软X射线多层镜的研制与计量

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作者
Sertsu Mewael Giday;
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年度 2016
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2. Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target [J] . Rakowski R, Bartnik A, Fiedorowicz H, Optica applicata . 2006,第4期

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3. Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target [J] . A. BARTNIK, H. FIEDOROWICZ, H. TICHA, Optica applicata . 2006,第4期

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4. Laboratory methods for investigations of multilayer mirrors in Extreme Ultraviolet and Soft X-Ray region [C] . M.S. Bibishkin, D.P. Chekhonadskih, N.I. Chkhalo, Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Micro- and Nanoelectronics . 2004

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