机译:未掺杂和稳定的氧化锆的缺陷化学和缺陷相关性质。批量与接口
机译:在1300摄氏度至1325摄氏度的温度下烧结的氧化钇稳定的氧化锆的水热老化:掺杂氧化铜和烧结时间变化的影响
机译:在1300°C–1325°C烧结的氧化钇稳定的氧化锆的水热老化:掺杂氧化铜和烧结时间变化的影响
机译:烧结法提高了8 MOL%氧化钇稳定氧化锆的离子电导率
机译:氧化钇稳定的氧化锆的微米级和纳米级粉末的激光冲击波烧结。
机译:激光烧结纤维素/ PLA混合物力学性能的分析与优化
机译:烧结对氧化钇稳定氧化锆缺陷的影响