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【2h】

Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica onto titanium: Analysis of surface chemistry, morphology and hydroxylation

机译：等离子体增强的化学气相沉积二氧化硅到钛上：分析表面化学，形态和羟基化

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Szili, Endre; Kumar, Sunil; Smart, Roger; Lowe, Rachel Davida; Saiz, Eduardo; Voelcker, Nicolas Hans;
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年度 2008
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