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【2h】

Novel Double-Deposited-Aluminum (DDA) Process for Improving Al Void and Refresh Characteristics of DRAM

机译：新型双沉积铝（DDA）工艺可改善DRAM的空洞和刷新特性

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Hong Seok-Woo; Kang Seung-Mo; Choi In-Hyuk; Jung Seung-Uk; Park Dong-Sik; Kim Kyoung-Ho; Choi Yong-Jin; Lee Tae-Woo; Lee Haebum; Cho In-Soo;
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年度 2016
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