Теплові ефекти при взаємодії потужного лазерного випромінювання з поверхнею напівпровідникових матеріалів

摘要

Досліджено процес розігріву поверхні твердого тіла кількома лазерними пучками, що створюють на його поверхні одно– та двомірну інтерференційні картини. Показано, що за допомогою інтенсивного лазерного випромінювання можна проводити мікро–нано структурування поверхні напівпровідників. Встановлено, що фемтосекундними лазерними імпульсами можна ефективно прогрівати зразки кристалічного кремнію товщиною до 20 мкм.Ключові слова: лазерне випромінювання, температура, напівпровідник, лазер-індуковані структури, поверхня, наноструктури, абляція.