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【2h】

RF SOI CMOS Technology on 1st and 2nd Generation Trap-Rich High Resistivity SOI Wafers

机译:第一和第二代陷阱丰富的高电阻率SOI晶圆上的RF SOI CMOS技术

摘要

In this work 3 different types of UNIBOND Silicon-on-Insulator 5SOI) wafers including one standard and two types of trap-rich high-resistivity HR-SOI substrates provided by SOITEC are studied. The DC and RF performances of these wafers are compared by means of passive and active devices, coplanar waveguide (CPW) lines and partially-depleted (PD) SOI MOSFETs respectively.
机译:在这项工作中,研究了由SOITEC提供的3种不同类型的UNIBOND绝缘体上硅(SOI)晶片,包括一种标准和两种类型的富阱高电阻率HR-SOI衬底。这些晶片的DC和RF性能分别通过无源和有源器件,共面波导(CPW)线和部分耗尽(PD)SOI MOSFET进行比较。

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