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The Role of Metal-Nanotube Contact in the Performance of Carbon Nanotube Field-Effect Transistors

机译:金属-纳米管接触在碳纳米管场效应晶体管性能中的作用

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摘要

Single-wall carbon nanotube field-effect transistors (CNFETs) have been shown to behave as Schottky barrier (SB) devices. It is not clear, however, what factors control the SB size. Here we present the first statistical analysis of this issue. We show that a large data set of more than 100 devices can be consistently accounted by a model that relates the on-current of a CNFET to a tunneling barrier whose height is determined by the nanotube diameter and the nature of the source/drain metal contacts. Our study permits identification of the desired combination of tube diameter and type of metal that provides the optimum performance of a CNFET.
机译:单壁碳纳米管场效应晶体管(CNFET)已显示出可作为肖特基势垒(SB)器件。但是,尚不清楚什么因素控制SB大小。在这里,我们对这个问题进行首次统计分析。我们显示,通过将CNFET的导通电流与隧穿势垒相关的模型,可以一致地解释超过100个器件的大型数据集,该隧穿势垒的高度由纳米管直径和源极/漏极金属触点的性质决定。我们的研究可以确定所需的管径和金属类型的组合,以提供CNFET的最佳性能。

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