机译:浸入式两光束干涉激光诱导背面湿蚀刻技术在熔融石英中制备104 nm周期光栅
机译:激光诱导的背面湿蚀刻技术在熔融石英中制备亚微米光栅
机译:激光诱导背面湿法刻蚀技术在熔融石英中制备550 nm光栅
机译:通过激光诱导背面湿法刻蚀(LIBWE)在熔融石英板上制造1μm图案
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:液体环境对熔化二氧化硅激光诱导的背面湿法蚀刻的影响