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【2h】

Moving gantry method for electron beam dose profile measurement at extended source-to-surface distances

机译：移动龙门架方法在扩展的源到表面距离下测量电子束剂量

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Fekete Gábor; Fodor Emese; Pesznyák Csilla;
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年度 2015
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1. Moving gantry method for electron beam dose profile measurement at extended source‐to‐surface distances [J] . Fekete Gábor, Fodor Emese, Pesznyák Csilla Journal of applied clinical medical physics / . 2015,第2期

机译：移动龙门架方法在扩展的源到表面距离下测量电子束剂量
2. Electron beam characteristics at extended source-to-surface distances for irregular cut-outs [J] . T. Arunkumar, Sanjay S. Supe, M. Ravikumar, Journal of Medical Physics/Association of Medical Physicists of India . 2010,第4期

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3. Cross-validation of Physical Dose Measurements and Monte Carlo Simulations for the Dose Distribution Characteristics of Abutted Fields between X-rays and Electron Beams According to Electron Shielding Block's Manufacturing Method [J] . Su-Man Kang, In-Chul Im, Jae-Seung Lee, Journal of the Korean Physical Society . 2014,第12期

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4. Validation of electron beam position monitoring probes by comparison of dose profile measurements with beam displacement sensing in the microwave range [C] . Ruf M. Microwave Conference Proceedings (APMC), 2011 Asia-Pacific . 2011

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5. Mathematical Modeling and Control System Design for Industrial Dual Beam Gantry System with Rigid Moving Load [D] . ?Pham, Minh 2020

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6. Moving gantry method for electron beam dose profile measurement at extended source‐to‐surface distances [O] . Gábor Fekete, Emese Fodor, Csilla Pesznyák 2015

机译：移动龙门架方法在扩展的源到表面距离下测量电子束剂量
7. Electron beam characteristics at extended source-to-surface distances for irregular cut-outs [O] . Arunkumar, T., Supe, Sanjay S., Ravikumar, M., 2010

机译：在不规则切口处扩展的源到表面距离下的电子束特性

Moving gantry method for electron beam dose profile measurement at extended source-to-surface distances

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