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机译:使用磁控溅射和化学浴沉积在CdS层上电沉积CdTe膜
Lisco Fabiana; Abbas Ali; Bowers Jake W.; Claudio Gianfranco; Kaminski Piotr M.; Walls Michael;
机译:化学浴沉积和电沉积法制备CdS / CdSe双层薄膜及其光电化学性能
机译:CdS / CdTe界面的研究:通过近距离升华和化学浴沉积技术沉积的CdS膜的比较
机译:化学浴沉积和脉冲直流磁控溅射沉积CdS的结构特性
机译:使用磁控溅射和化学浴沉积沉积CDS层上CDTE膜的电沉积
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:使用电泳沉积法表征在不同浴温和浓度下沉积的CdTe膜
机译:化学浴沉积和脉冲直流磁控溅射沉积CdS的结构性能
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译:在基板上沉积薄膜,例如通过使用磁控管沉积目标材料的第一膜,并使用磁控管进行反应性物理气相沉积工艺沉积第二膜,从而在半导体器件中形成衬里或阻挡层
机译:化学溶液沉积法制备CDS薄膜的CDTE / CDS太阳能电池的制备方法
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