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【2h】

Silicon Chemical Vapor Deposition Process Using a Half-Inch Silicon Wafer for Minimal Manufacturing System

机译：使用半英寸硅晶圆的硅化学气相沉积工艺，可最小化制造系统

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作者
Li Ning; Habuka Hitoshi; Ikeda Shin-ichi; Hara Shiro;
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年度 2013
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