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机译:溅射薄膜压电氮化铝作为功能性MEMS材料和CMOS兼容的工艺集成
Marauska S.; Dankwort T.; Quenzer H.J.; Wagner B.;
机译:溅射薄膜压电氮化铝作为功能MEMS材料
机译:有源薄膜与硅兼容材料和工艺科学协议的集成,用于MEMS规模减振应用
机译:使用用于压电MEMS的金属夹层溅射的掺杂scan的氮化镓薄膜的压电响应增加
机译:溅射薄膜压电铝氮化物作为功能性MEMS材料和CMOS兼容过程集成
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:用于压电应用的氮化铝(002)薄膜的反应溅射:综述
机译:溅射薄膜压电氮化铝作为功能mEms材料和CmOs兼容工艺集成
机译:功能器件的制造方法,铁电材料层的制造方法,场效应晶体管,薄膜晶体管,场效应晶体管和压电喷墨头的制造方法
机译:功能器件的生产过程,铁电材料层的生产过程,场效应晶体管,薄膜晶体管,场效应晶体管和压电喷墨头的生产过程
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