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机译:原子层沉积氧化f薄膜对中等掺杂晶体硅的低温表面钝化
Lin F.; Hoex B.; Koh Y.H.; Lin J.J.; Aberle A.G.;
机译:原子层沉积氧化Ha薄膜对中掺杂晶体硅的低温表面钝化
机译:硅表面原子沉积Ha和氧化铝的钝化特性
机译:催化CVD氮化硅膜和磷掺杂对钝化晶体硅表面的钝化
机译:通过原子层沉积的铪氧化铝膜中度掺杂晶体硅的低温表面钝化
机译:晶体硅的基于钝化生长的天然氧化物的钝化:一种用于硅光伏的低温合成的新方法。
机译:利用透射菊池衍射的Si和Zr掺杂氧化Ha薄膜和集成FeFET的结构和电学比较
机译:超薄原子层沉积的TiOx层对晶体硅表面的有效钝化
机译:用于铁基基材表面的含氟膜结构具有高结晶性氧化硅的中间层,然后是较小结晶性氧化硅的粘结层,然后被含氟膜覆盖
机译:使具有掺杂源的熔炉中具有晶体硅P-N同质和非晶硅异质结的太阳能电池表面钝化的方法
机译:具有改善的表面钝化作用的晶体硅太阳能电池的表面硼掺杂层。
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