机译:直流偏压对活性射频磁控溅射TiVCrZrTaN薄膜微结构,残余应力和硬度性能的影响
机译:反应射频的显微组织和硬度磁控溅射Cr-V-O薄膜取决于成分和衬底偏置
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在不同工作压力下沉积的AlN薄膜的结构性能和残余应力的比较
机译:负衬底偏置电压对直流反应磁控溅射氧化铝膜结构和性能的影响
机译:直流偏置对Tivcrzrtan膜通过反应性RF磁控溅射的微观结构,残余应力和硬度特性
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:通过反应磁控溅射合成的富含氮锡薄膜的化学计量和微观结构的压力和温度效应