机译:真空退火射频溅射WS_2薄膜的摩擦学行为
机译:真空退火对磁控溅射氢化非晶碳膜组织和摩擦学性能的影响
机译:通过沉积后退火通过RF溅射生长的层调制晶圆级连续WS2薄膜
机译:使用RF磁控溅射在真空和正态退火的ZnO薄膜中的应力,应变和光学性质的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:射频溅射功率和真空退火对偶氮靶法制备陶瓷靶制备的偶氮薄膜性能的影响