机译:ICP-OES分析Al浓度对共溅射ZnO:Al膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:共溅射P型ZnO的结构,光学和电性能:Cu薄膜
机译:不同原子浓度和沉积温度的原子层沉积铝掺杂ZnO薄膜的光学,结构和电学性质研究
机译:Al浓度和退火温度对Al共掺杂ZnO薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:ICP-OES对共溅射ZnO:Al薄膜结构,电气和光学性能分析的抗体浓度的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:掺杂浓度对由化学浴沉积法生长的内在N型ZnO(I-ZnO)和(Cu,Na和K)掺杂P型ZnO薄膜的光学和电性能的影响
机译:共溅射半导体和金属绝缘体薄膜的光学和电学特性