机译:SiO {sub} 2化学机械抛光中胶体磨料尺寸对材料去除率和表面光洁度的影响
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机译:3-巯基丙基三甲氧基硅烷对表面光洁度和材料去除率的影响
机译:化学机械抛光中材料去除和表面粗糙度的颗粒模型。
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机译:石菖蒲化学机械抛光中si3N4旋转曲面工件材料去除率的实验研究