首页> 外文OA文献 >Low-stress and Long-term Stable a-SiNx:H Films Deposited by ICP-PECVD

【2h】

Low-stress and Long-term Stable a-SiNx:H Films Deposited by ICP-PECVD

机译：ICP-PECVD沉积的低应力和长期稳定的a-SiNx：H薄膜

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Dergez D.; Bittner A.; Schmid J. Schalko;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2014
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. TEM analysis of photocatalytic TiO_2 thin films deposited on polymer substrates by low-temperature ICP-PECVD [J] . Li D., Gautier N., Dey B., Applied Surface Science . 2019,第OCTa15期

机译：低温ICP-PECVD法沉积在聚合物基体上的光催化TiO_2薄膜的TEM分析
2. TEM analysis of photocatalytic TiO_2 thin films deposited on polymer substrates by low-temperature ICP-PECVD [J] . Li D., Gautier N., Dey B., Applied Surface Science . 2019,第Octa15期

机译：低温ICP-PECVD在聚合物基材上沉积的光催化TiO_2薄膜的TEM分析
3. Fundamental properties of a-SiN_x:H thin films deposited by ICP-PECVD for MEMS applications [J] . D. Dergez, J. Schalko, A. Bittner, Applied Surface Science . 2013,第nova1期

机译：ICP-PECVD沉积的MEMS应用的a-SiN_x：H薄膜的基本性能
4. Low-stress and long-term stable a-SiN_x:H films deposited by ICP-PECVD [C] . D. Dergez, A. Bittner, J. Schalko European Conference on Solid-State Transducers . 2015

机译：低应力和长期稳定A-SIN_X：ICP-PECVD沉积的H薄膜
5. Physical properties of thin film, metastable titanium(0.5)aluminum(0.5)nitrogen alloys deposited by reactive magnetron sputtering. [D] . McIntyre, Dale Charles. 1989

机译：通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛（0.5）铝（0.5）铝合金薄膜的物理性能。
6. Vapor‐Deposited Cs2AgBiCl6 Double Perovskite Films toward Highly Selective and Stable Ultraviolet Photodetector [O] . Ming Wang, Peng Zeng, Zenghui Wang, 2020

机译：气相沉积的Cs2AgBiCl6双层钙钛矿薄膜用于高选择性和稳定的紫外光电探测器。
7. Low-stress diamond films deposited on stainless steel by a two-step dropped power process in chemical vapor deposition [O] . Xiao Li, Jianqing Chen, Jiansong Ye, 2018

机译：在化学气相沉积中通过两步滴电源工艺沉积在不锈钢上的低应力金刚石薄膜
8. Biaxially Textured YBa2Cu3O7-x Films Deposited on Polycrystalline Flexible Yttria-Stablized Zirconia Ceramic Substrates [R] . Varanasi, C. V., Burke, J., Lu, R., 2008

机译：双轴织构YBa2Cu3O7-x薄膜沉积在多晶柔性氧化钇稳定氧化锆陶瓷基板上

Low-stress and Long-term Stable a-SiNx:H Films Deposited by ICP-PECVD

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅