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Fundamental Studies of Hydrogen at the Silicon / Silicon Nitride Interface

机译：硅/氮化硅界面氢的基础研究

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Joos Sebastian; Schiele Yvonne; Terheiden Barbara; Becker Hans-Werner; Rogalla Detlef; Hahn Giso;
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年度 2014
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1. Fundamental connection between hydrogen/deuterium desorption at silicon surfaces in ultrahigh vacuum and at oxide/silicon interfaces in metal-oxide-semiconductor devices [J] . Kangguo Cheng, Jinju Lee Journal of Vacuum Science & Technology. B . 2001,第4期

机译：超高真空中硅表面的氢/氘解吸与金属氧化物半导体器件中的氧化物/硅界面之间的氢/氘解吸之间的基本连接
2. Angle-resolved photoelectron study on the structures of silicon nitride films and Si_3N_4/Si interfaces formed using nitrogen-hydrogen radicals [J] . Takashi Aratani, Masaaki Higuchi, Shigetoshi Sugawa, Journal of Applied Physics . 2008,第11期

机译：角分辨光电子研究氮氢自由基形成的氮化硅膜和Si_3N_4 / Si界面的结构
3. A deep-level transient spectroscopy study of silicon interface states using different silicon nitride surface passivation schemes [J] . Applied Physics Letters . 2010,第10期

机译：使用不同氮化硅表面钝化方案的硅界面态的深层瞬态光谱研究
4. Fundamental studies of hydrogen at the silicon / silicon nitride interface [C] . Sebastian Joos, Yvonne Schiele, Barbara Terheiden International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics . 2014

机译：硅/氮化硅界面氢的基础研究
5. A study of the effect of stoichiometry and hydrogen content on the physical and electrical properties of silicon nitride and oxynitride layers on silicon and silicon dioxide [D] . Robitaille, Louis R. L. 1990

机译：化学计量和氢含量对硅和二氧化硅上氮化硅和氧氮化物层的物理和电学性质的影响的研究
6. Hydrogenated amorphous silicon nitride photonic crystals for improved-performance surface electromagnetic wave biosensors [O] . Alberto Sinibaldi, Emiliano Descrovi, Fabrizio Giorgis, 2012

机译：用于性能提高的表面电磁波生物传感器的氢化非晶硅氮化硅光子晶体
7. Interface study of hydrogenated amorphous silicon nitride on hydrogenated amorphous silicon by x-ray photoelectron spectroscopy [O] . Beaudoin M., Arsenault C. J., Izquierdo R., 1989

机译：X射线光电子能谱法研究氢化非晶硅上氢化非晶硅的界面
8. Fundamental Studies of Corrosion of Nonoxide Structural Ceramics. Volume 1. Single Crystal Silicon Carbide and Volume 2, Chemical Vapor Deposited Silicon Nitride. Final Report January 1, 1985-June 30, 1988 [R] . Zheng, Z. , Tressler, R. E. , Spear, K. E. 1988

机译：非氧化物结构陶瓷腐蚀的基础研究。第1卷。单晶碳化硅和第2卷，化学气相沉积的氮化硅。最终报告1985年1月1日至1988年6月30日

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