机译:新型酸性SiO_2浆料在熔融石英中实现超低表面粗糙度和高材料去除率及其化学机械抛光机理
机译:原子力显微镜确定光学生物传感器制备过程中清洁熔融石英和玻璃基板对表面粗糙度的影响
机译:光学抛光工艺:使用响应表面方法(RSM)对大直径熔融石英平板基板进行分析和优化
机译:等离子抛光过程中熔融二氧化硅的粗糙度演变
机译:正畸括号粘接方案对氧化锆陶瓷和粘合强度,粘合剂残余和脱粘抛光氧化锆表面粗糙度的影响
机译:熔融沉积建模(FDM)过程中印刷方向对表面粗糙度的影响
机译:抛光诱导污染在熔融二氧化硅表面上的深度分析
机译:Einfluss der durch moderne Herstellungsverfahren erzeugten Oberflaechenrauhigkeiten auf das stroemungsverhalten von Verdichtergittern(现代生产工艺产生的表面粗糙度对压缩机网格流动过程的影响)。