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【2h】

Effect of Partial Melting Parameters on the Microstructures and Critical Current Density of Bi-2212 Thick Films

机译：部分熔融参数对Bi-2212厚膜微结构和临界电流密度的影响

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作者
Zhang Shengnan; Li Chengshan; Hao Qingbin; Song Lulu; Zhang Yilei; Zhang Pingxiang; Hu Rui;
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年度 2012
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1. Critical current densities of Bi-2212 thick films processed from commercial precursors [J] . Sager D, Gauckler LJ, Chen M Physica, C. Superconductivity and its applications . 2005,第3a4期

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2. Enhancement of critical current density and flux pinning in Bi-2212 thick films due to MgO addition [J] . Baorong Ni, Kiuchi M., Otabe E.S. IEEE Transactions on Applied Superconductivity . 2003,第2期

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3. Critical current density and flux pinning in Bi-2212 superconducting thick film grown on oxidized Ni tape [J] . Ni BR. Physica, C. Superconductivity and its applications . 2003,第0期

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4. Critical Current Densities in Bi-2212/MgO Thick Films [C] . S.Koebel, D.Schneider, L.Fal, European conference on applied superconductivity;EUCAS 1999 . 2000

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5. Study of critical current density in superconducting magnesium diboride films grown by ex situ annealing of CVD boron films. [D] . Hanna, Mina. 2009

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8. Tape casting and partial melting of Bi-2212 thick films [R] . Buhl, D., Lang, TH., Heeb, B., 1995

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