机译:PECVD沉积并经SF_6等离子体改性的氢化非晶碳膜的性能
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机译:碳含量和等离子体功率对PECVD沉积氢化非晶碳化硅薄膜室温光致发光特性的影响
机译:通过PECVD沉积的无定形氢化碳膜:薄膜生长期间氮气掺入,等离子体表面处理
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质
机译:等离子体沉积的无定形氢化碳膜及其摩擦学性能