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机译:撤回:衬底温度对热真空蒸发技术CdS薄膜光学常数的影响
Jassim Salah Abdul-Jabbar;
机译:衬底温度和退火对真空闪蒸沉积纳米CdS薄膜结构和光学性能的影响
机译:衬底温度对热蒸发CdS纳米晶薄膜结构和光学性能的影响
机译:真空热蒸发技术制备的Na-In_2S_3薄膜的光学常数
机译:基材温度对真空蒸发CDSE薄膜结构和光电导性能的影响
机译:热蒸发CdSe薄膜的光电性能研究。
机译:热蒸发法沉积纳米结构化CdS薄膜:衬底温度的影响
机译:衬底温度对热蒸发沉积CdS薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:真空沉积设备,由于蒸发材料混合并沉积时,蒸发材料的混合比在膜的深度恒定,因此能够形成均质的薄膜
机译:通过真空沉积法在基板上沉积薄膜,包括在蒸发源中加热蒸气云形式的涂料直到其蒸发,然后将蒸发的涂料散布在基板表面上
机译:一种制造产品的方法,该产品由薄膜形式的材料制成,该材料以薄膜形式施加在基材表面上,并由一层热固性材料加压,其中基本的开孔结构形成联盟,其中材料呈以下形式薄膜。将其加热到高于100摄氏度的温度。
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