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The epitaxial lift-off method : III/V materials and HF etch process studies

机译：外延剥离法：III / V材料和HF蚀刻工艺研究

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Niftrik Antonius Theodorus Jozef van;
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年度 2008
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机译：外延剥离工艺的固有横向蚀刻速率的多层剥离层研究
2. Epitaxial Lift-Off and Transfer of III-N Materials and Devices from SiC Substrates [J] . David J. Meyer, Brian P. Downey, D. Scott Katzer, Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on . 2016,第4期

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3. Arsenic Formation on GaAs during Etching in HF Solutions:Relevance for the Epitaxial Lift-Off Process [J] . N. J. Smeenk, J.Engel, P.Mulder ECS Journal of Solid State Science and Technology . 2013,第3期

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5. Plasma -assisted MBE growth kinetics and characterization studies of wide bandgap III-V epitaxial materials. [D] . O'Steen, Mark Lee. 2000

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