OPC model error study through mask and SEM measurement error

机译：通过掩膜和SEM测量误差研究OPC模型误差

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机译：国际观众

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Top, Mame Kouna; Fuard, David; Farys, Vincent; Trouiller, Yorick; Schiavone, Patrick;
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年度 2010
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3. Accounting for Both Random Errors and Systematic Errors in Uncertainty Propagation Analysis of Computer Models Involving Experimental Measurements with Monte Carlo Methods [J] . Victor R. Vasquez, Wallace B. Whiting Risk analysis . 2005,第6期

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4. OPC model error study through mask and SEM measurement error [C] . Mame Kouna Top, David Fuard, Vincent Farys, Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXIV . 2010

机译：通过掩膜和SEM测量误差研究OPC模型误差
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