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Schottky barrier formation at amorphous-crystalline interfaces of GeSb phase change materials

机译:GeSb相变材料非晶-晶体界面处的肖特基势垒形成

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摘要

The electrical properties of amorphous-crystalline interfaces in phase change materials, which are important for rewritable optical data storage and for random access memory devices, have been investigated by surface scanning potential microscopy. Analysis of GeSb systems indicates that the surface potential of the crystalline phase is ~30–60mV higher than that of the amorphous phase. This potential asymmetry is explained qualitatively by the presence of a Schottky barrier at the amorphous-crystalline interface and supported also by quantitative Schottky model calculations.
机译:已经通过表面扫描电势显微镜研究了相变材料中非晶-晶体界面的电学性质,这对于可重写光学数据存储和随机存取存储设备很重要。对GeSb系统的分析表明,结晶相的表面电势比非晶相的表面电势高约30-60mV。定性解释了这种潜在的不对称性,因为非晶态晶体界面处存在肖特基势垒,并且也得到了定量肖特基模型计算的支持。

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