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Growth and fabrication of gaN-based structures using aluminium indium nitride insertion layers

机译:使用氮化铝铟插入层生长和制造基于gaN的结构

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摘要

This speech was presented to the 2005 Annual Conference of the British Association for Crystal Growth, held in Sheffield on Sunday 4 - Tuesday 6 September 2005. The presentation focused on the design and growth of microcavities and the roles of AlInN layer in post-growth processing.
机译:该演讲已提交给2005年9月4日至9日(星期二)在谢菲尔德举行的英国晶体生长协会2005年年会。该演讲的重点是微腔的设计和生长以及AlInN层在后生长处理中的作用。

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