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Nano-scale morphological and electrical characterization of nc-SiOxNy thin layers for photovoltaic applications

机译:用于光伏应用的nc-SiOxNy薄层的纳米级形态和电学表征

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摘要

Il presente lavoro di tesi propone uno studio approfondito di proprietà morfologiche e di trasporto di carica di film sottili di SiOxNy amorfi (a-SiOxNy) e nanocristallini (nc-SiOxNy), che trovano importanti applicazioni in celle fotovoltaiche ad eterogiunzione in silicio, ad alta efficienza. Lo studio è condotto mediante caratterizzazione elettrica e morfologica attraverso tecniche di microscopia a forza atomica (AFM).udSono stati studiati campioni di a-SiOxNy cresciuti con tecnica PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), in cui è stata variata unicamente la distanza tra gli elettrodi durante la deposizione. Sono stati inoltre studiati campioni di nc-SiOxNy, cresciuti con PECVD con una differente percentuale di N2O come gas precursore e un differente tempo di annealing. In entrambi i casi si tratta di un materiale innovativo, le cui proprietà fisiche di base, nonostante le numerose applicazioni, sono ancora poco studiate.udL'analisi morfologica, condotta mediante AFM e successiva analisi statistica delle immagini, ha permesso di determinare alcune proprietà morfologiche dei campioni. L’analisi statistica delle immagini è stata validata, dimostrandosi stabile e consistente per lo studio di queste strutture.udLo studio delle proprietà di trasporto è stato condotto mediante acquisizione di mappe di corrente con tecnica conductive-AFM. In questo modo si è ottenuta una mappa di conducibilità locale nanometrica, che permette di comprendere come avviene il trasporto nel materiale.udL'analisi di questo materiale mediante tecniche AFM ha permesso di evidenziare che l'annealing produce nei materiali nanocristallini sia un clustering della struttura, sia un significativo aumento della conducibilità locale del materiale. Inoltre la distanza tra gli elettrodi in fase di deposizione ha un leggero effetto sulle dimensioni dei grani. È da notare inoltre che su questi campioni si sono osservate variazioni locali della conducibilità alla nanoscala. udL’analisi delle proprietà dei materiali alla nanoscala ha contribuito alla comprensione più approfondita della morfologia e dei meccanismi di trasporto elettronico.
机译:本文的工作提出了对非晶SiOxNy(a-SiOxNy)和纳米晶体(nc-SiOxNy)薄膜的形态特性和电荷传输的深入研究,这些发现在硅异质结光伏电池中具有重要的应用。效率。该研究是通过原子力显微镜(AFM)技术通过电学和形态学表征进行的。 研究了用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)技术生长的Ud A-SiOxNy样品,其中仅沉积过程中的电极。还研究了Nc-SiOxNy样品,该样品在PECVD中以不同百分比的N2O作为前驱物气体和不同的退火时间生长。在这两种情况下,它都是一种创新材料,尽管有许多应用,但其基本物理性能仍未得到很好的研究。 Ud由AFM进行的形态分析以及随后的图像统计分析允许确定某些性能。形态样本。对图像的统计分析已得到验证,证明对这些结构的研究是稳定和一致的。 Ud通过使用导电AFM技术获取电流图来进行传输特性的研究。通过这种方法,可以获得局部纳米电导率图,从而可以了解材料中的传输方式。Ud使用原子力显微镜技术对该材料的分析可以突出显示,退火在纳米晶体材料中产生了两个簇。结构,并显着增加了材料的局部电导率。此外,在沉积阶段期间电极之间的距离对晶粒尺寸影响很小。还应注意,在这些样品上观察到了纳米级电导率的局部变化。 udn对材料性质的分析有助于更深入地了解形态学和电子传输机制。

著录项

  • 作者

    Fazio Maria Antonietta;

  • 作者单位
  • 年度 2015
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 en
  • 中图分类

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