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Misure di spettroscopia superficiale su campioni di InGaN/GaN

机译:InGaN / GaN样品的表面光谱测量

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摘要

Tra i materiali semiconduttori più utilizzati nel settore tecnologico, un ruolo molto importante è giocato dalle leghe di azoto ed elementi del III-gruppo. Una delle caratteristiche che li rende così popolari è la possibilità, variando la composizione degli elementi che costituiscono le diverse leghe di questa famiglia, di ottenere materiali il cui bandgap va dall'infrarosso all'ultravioletto, e ricopre così tutto lo spettro visibile. Questa caratteristica permette l'utilizzo di queste leghe in applicazioni di tipo optoelettronico (LED e laser), ma anche nel settore fotovoltaico, poiché si ha una buona corrispondenza tra la regione dello spettro elettromagnetico coperta dal bandgap di queste leghe e lo spettro solare.udLo scopo di questa tesi è lo studio di alcuni campioni di materiali semiconduttori di questa famiglia, ossia eterostrutture di InGaN/GaN, tramite la tecnica della surface photovoltage spectroscopy.udIn particolare, le misure effettuate si sono rivolte alla misura del bandgap di tali materiali e alla determinazione del tipo di portatori di carica. Un'ampia parte del lavoro sperimentale è stata inoltre dedicata a test volti a determinare le condizioni ottimali in cui lavorare.udLe misure del bandgap dell'InGaN nei campioni ne hanno evidenziato l'andamento decrescente per concentrazioni crescenti di indio, e il valore ricavato per il bandgap del GaN è risultato coerente con quanto riportato in altri studi. Dalla determinazione del tipo di portatori di carica, condotta tramite phase shift spectroscopy, è emersa la diversa natura (n o p) dei picchi relativi all'InGaN a seconda del drogaggio materiale.udDalle misure è anche emerso che uno dei campioni, che ha mostrato dei comportamenti anomali, potrebbe presentare dei difetti nel reticolo cristallino. Un'eventuale prosecuzione di questo studio potrebbe quindi concentrarsi su misure più approfondite volte a determinare la effettiva presenza, ed eventualmente la natura, di tali difetti.
机译:在技​​术领域最常用的半导体材料中,氮合金和III类元素起着非常重要的作用。使它们如此受欢迎的特征之一是,可以通过改变组成该族不同合金的元素的组成,来获得能带隙从红外到紫外并覆盖整个可见光谱的材料。该功能允许将这些合金用于光电应用(LED和激光),也可以用于光电领域,因为这些合金的带隙覆盖的电磁光谱区域与太阳光谱之间存在良好的对应关系。本论文的目的是利用表面光电压谱技术研究该族半导体材料的一些样品,即InGaN / GaN的异质结构。特别是,进行测量旨在测量这些材料的带隙。并确定电荷载体的类型。 Ud样品中IngaN带隙的测量结果表明,铟浓度升高的趋势有所降低,并且获得的值对于GaN带隙,它与其他研究报告的结果一致。通过相移光谱法确定电荷载流子的类型,根据材料的掺杂情况,出现了与InGaN相关的峰的不同性质(nop)。 Ud通过测量还发现其中一个样品,表明异常行为,可能会在晶格中出现缺陷。因此,这项研究的可能延续可能集中在旨在确定这些缺陷的实际存在以及可能的性质的更深入的措施上。

著录项

  • 作者

    Libraro Sofia;

  • 作者单位
  • 年度 2017
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 it
  • 中图分类

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