Исследование прочностных свойств пленок фоторезиста на кремнии методом склерометрии

摘要

STUDY OF STRENGTH PROPERTIES OF PHOTORESIST FILMS ON SILICON BYTHE SCRATCHING METHOD. S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH (Polotsk State University); D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, Y. YANKOVSKI (Белорусский государственный университет, Минск)