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III-V complementary HIGFET technology for low power microwave and high speed/low power digital integrated circuits

机译:用于低功率微波和高速/低功率数字集成电路的III-V互补HIGFET技术

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摘要

A self aligned complementary HIGFET technology has been developed for high speed/low power digital and microwave analog applications. The process uses 9 lithographic steps including two level of interconnect metal. Typical transconductances of 290 mS/mm and 65 mS/mm are acheived on lum gate length N and P-channel devices respectively. 0.5 um gate length N-HIGFET show a Ft of 40 GHz and an intrinsic Fc of 80 GHz. These devices show promise for incorporation in complementary digital, MMIC and RF power circuits.
机译:已经针对高速/低功率数字和微波模拟应用开发了一种自对准互补HIGFET技术。该工艺使用9个光刻步骤,包括两层互连金属。典型的跨导长度为290 mS / mm和65 mS / mm,分别在流明栅长度N和P沟道器件上实现。 0.5 um栅极长度N-HIGFET的Ft为40 GHz,固有Fc为80 GHz。这些器件显示出有望整合到互补数字,MMIC和RF电源电路中的希望。

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