机译:使用Al_2O_3原子层沉积粘附层改善SiLK低介电常数聚合物介电层上TiN原子层沉积膜的成核作用
机译:氧化硅上HfO2栅极介电层的原子层沉积的成核和生长:多尺度建模研究
机译:界面有机层对原子层薄膜沉积中成核,生长和形态演变的影响
机译:CMOS缩放的原子层沉积:Si,Ge和III-V半导体上的高k栅极电介质
机译:原子层沉积过程中III-V半导体上介电膜的形核和生长。
机译:AlGaN / GaN金属-氧化物-半导体高电子迁移率晶体管中作为栅极电介质的氧化镓膜的原子层沉积
机译:高介电常数薄膜与III-V化合物半导体之间的界面形成,采用HF化学和原子层沉积