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Review: Tunnel ionization of deep impurities in semiconductors induced by terahertz electric fields

机译:综述:太赫兹电场在半导体中深层杂质的隧道电离

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摘要

An analysis is made of the ionization of deep impurity centers induced by high-intensity terahertz radiation whose photon energies are tens of times lower than the impurity ionization energy. Under these conditions, ionization can be described as phonon-assisted tunneling in which carrier emission is accompanied by defect tunneling in configuration space and electron tunneling in the electric field of the radiation. At high intensities the ionization is caused by direct tunneling. Within a broad range of intensity, frequency and temperature, the terahertz electric field of the radiation acts like a static field. For very high frequencies and low temperatures an enhancement in tunneling as compared to static fields takes place.
机译:分析了由高强度太赫兹辐射引起的深层杂质中心的电离,其光子能量比杂质电离能低几十倍。在这些条件下,电离可描述为声子辅助隧穿,其中载流子发射伴随着配置空间中的缺陷隧穿和辐射电场中的电子隧穿。在高强度下,电离是由直接隧穿引起的。在很宽的强度,频率和温度范围内,辐射的太赫兹电场像静态电场一样起作用。对于非常高的频率和低温,与静态场相比,隧道效应得以增强。

著录项

  • 作者

    Ganichev Sergey;

  • 作者单位
  • 年度 1999
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
  • 中图分类

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