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机译:16纳米FinFET技术节点处的多单元软错误
Tam N.; Bhuva B. L.; Massengill L. W.; Ball D.; McCurdy M.; Alles M. L.; Chatterjee I.;
机译:先进技术节点上的多单元软错误
机译:重离子轰击对16nm体FinFET技术中触发器设计的单事件翻转响应的角度影响
机译:采用16 nm FinFET技术的电荷控制锁存器设计,可改善软错误硬度
机译:基于较低技术节点(7nm)的不同FINFET的静态随机存取存储器设计
机译:具有嵌入式校准方案的动态pH传感器采用先进的CMOS FinFET技术
机译:7 NM FinFET技术中多数选民中辐射诱导的软误差评估
机译:SOI CMOS技术的掩埋氧化物下方的电容器可防止软错误
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