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Green, red and infrared Er-related emission in implanted GaN:Er and GaN:Er,O samples

机译:植入的GaN:Er和GaN:Er,O样品中与绿,红和红外Er有关的发射

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摘要

Er-related luminescence near 1.54 mm ~;805 meV! is observed under below band gap excitation at4.2 K in GaN:Er and GaN:Er,O implanted samples. The spectrum of the recovered damage samplesis a multiline structure. So far, these lines are the sharpest ones reported for GaN. Well-resolvedgreen and red luminescences are observed in implanted samples. The dependence of luminescenceon the excitation energy as well as the influence of different nominal fluence and annealingconditions is discussed. Combining the results obtained from photoluminescence and Rutherfordbackscattering spectrometry, different lattice sites for the optical active Er-related centers areidentified.
机译:1.54 mm附近的Er相关发光〜; 805 meV!在GaN:Er和GaN:Er,O注入的样品中,在4.2 K以下的带隙激发下观察到。回收的损伤样品的光谱是多线结构。到目前为止,这些线是报道的最清晰的GaN线。在植入的样品中观察到分辨良好的绿色和红色发光。讨论了发光对激发能的依赖性以及不同标称通量和退火条件的影响。结合从光致发光和卢瑟福反向散射光谱法获得的结果,确定了与光学活性Er有关的中心的不同晶格位置。

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