机译:一次写入光学记录的氮化铜膜的反应性DC磁控管沉积
机译:用于一次写入光学记录介质的TeO_x薄膜
机译:一次写入光学记录介质的金属和金属氧化物薄膜
机译:通过大气压化学气相沉积制备的锡氮化物薄膜的光学记录特性
机译:脉冲激光沉积氧化铜,氧化钴(II),氧化钴(III),类金刚石碳,氮化镓,氮化铝和氮化铟薄膜。
机译:溅射参数和铜的掺杂对聚合物基底上铁和氮化铁纳米薄膜表面自由能和磁性能的影响
机译:直流溅射合成氮化铜薄膜的表面形貌和光学性质
机译:反应离子镀制备氮化钛和氮化锆薄膜的结构与性能