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机译:热退火过程中4H-SiC外延层深中心的稳定性
Negoro Y; Kimoto T; Matsunami H;
机译:热激发电流光谱法表征n型半绝缘4H-SiC外延层中的深能级
机译:通过热氧化和氢退火的结合提高轻掺杂Al的p型4H-SiC外延层中的载流子寿命
机译:高能电子辐照产生的n型和p型4H-SiC外延层中缺陷中心的热稳定性
机译:非晶态镍铌合金的热退火行为(金属,薄膜反应,结构松弛,稳定性,覆盖层)。
机译:P和Al注入的4H-SiC外延层的激光退火
机译:通过热刺激电流光谱表征n型和半绝缘4H-SiC外延层的深层水平
机译:通过脉冲快速热退火消除4H-SIC中的基面位错
机译:脉冲快速热退火消除4H-SIC中的基底平面错位
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